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龙图腾网获悉武汉光谷航天三江激光产业技术研究院有限公司申请的专利激光系统输出稳定性探测分析装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119779636B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411941427.1，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权激光系统输出稳定性探测分析装置及方法是由胡阿健;杨昭辉;姜永亮;宋祥;杜征宇;梁顺设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本激光系统输出稳定性探测分析装置及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种激光系统输出稳定性探测分析装置及方法，装置包括成光路连接的光学特性探测单元和光学特性分析单元；光学特性探测单元包括依次成光路连接的分光镜20、缩束镜21、位置敏感探测器22、聚焦透镜阵列23以及CCD相机24；光学特性分析单元包括处理器30及控制器31,控制器31接收处理器30的处理结果，当所述处理器30的处理结果超出激光系统的设定要求，控制器31向激光系统10发送告警信息。本发明同时对激光系统的激光束位置、激光束指向及光束波前变三方面信息进行测量，对激光束位置、激光束指向的测量消除了光束波前变产生的影响，提高了激光束位置、激光束指向的测量精度。

本发明授权激光系统输出稳定性探测分析装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种激光系统输出稳定性探测分析装置，其特征在于，包括成光路连接的光学特性探测单元和光学特性分析单元；其中， 所述光学特性探测单元包括依次成光路连接的分光镜20、缩束镜21、位置敏感探测器22、聚焦透镜阵列23以及CCD相机24，激光束经所述分光镜20分为透射光和反射光，所述透射光经缩束镜21缩束后辐照在位置敏感探测器22上，所述反射光经透镜阵列23聚焦在CCD相机24上； 所述光学特性分析单元包括处理器30及控制器31，所述处理器30采集所述位置敏感探测器22与CCD相机24上探测的光束信号并进行数据处理，分析激光系统10中的激光束位置和激光束指向偏移量及光束波前变化是否超出要求，所述控制器31接收处理器30的处理结果，当所述处理器30的处理结果超出激光系统的设定要求，控制器31向激光系统10发送告警信息； 聚焦透镜阵列23将第二反射光进行聚焦，CCD相机24放置在聚焦透镜阵列23的焦点位置，CCD相机24探测经聚焦透镜阵列23形成的第二反射光聚焦光斑阵列； 所述聚焦透镜阵列23的激光束指向为： 其中，为透镜阵列子透镜直径，为透镜阵列的焦距，分别为光斑阵列在CCD相机中坐标位置，分别为像素点编号，为总的像素数量； 处理器30对接收的测量数据进行处理，解算得到激光束位置偏移量、激光束指向偏移量和光束波前变化； 所述激光束位置偏移量为： 其中，分别为相机中光斑阵列的标定位置，分别为CCD相机采集的光斑阵列位置。

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