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龙图腾网获悉浙江大学;中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758678B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510122424.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统是由周丽军;王向朝;李中梁设计研发完成，并于2025-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统。所述系统包括光源组、探测光栅、透镜组及探测器；光源组包括第一光源对及第二光源对；第一光源对及第二光源对均出射光束，出射光束在硅片对准标记上的入射方向与硅片对准标记中心线的夹角等于该出射光束照射的硅片对准标记发生衍射后的第一级次衍射光与零级光之间的夹角；探测光栅所在水平面与探测器所在水平面关于透镜组构成物像共轭关系；探测光栅在透镜组的物面，探测器在透镜组的像面。本发明提出的投影光刻机对准传感系统结构简单，能够实现亚纳米、深亚纳米精度光刻机对准标记的位置检测。

本发明授权一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统在权利要求书中公布了：1.一种基于光栅与透镜组集成化的投影光刻机对准传感系统，其特征在于，系统包括： 光源组、探测光栅、透镜组及探测器； 光源组包括第一光源组，第一光源组包括分别进行x方向、y方向照明的第一光源对及第二光源对；每个光源对中的两个光源参数与种类相同；第一光源对中的光源在xz平面内对称地分布在该对准传感系统的中心光轴的两侧；第二光源对中的光源在yz平面内对称地分布在该对准传感系统的中心光轴的两侧； 第一光源对及第二光源对均出射光束，出射光束在硅片对准标记上的入射方向与硅片对准标记中心线的夹角等于该出射光束照射的硅片对准标记发生衍射后的第一级次衍射光与零级光之间的夹角； x方向、y方向分别为投影光刻机全局坐标系下水平面的水平方向、竖直方向，z方向为垂直于x方向及y方向确定的xy平面的方向； 探测光栅所在水平面与探测器所在水平面关于透镜组构成物像共轭关系；探测光栅在透镜组的物面，探测器在透镜组的像面；透镜组为无焦光学系统； 光源组还包括与第一光源组波长不同的第二光源组； 硅片对准标记由周期为P1的第一光栅、周期为P2的第二光栅、周期为P1的第三光栅和周期为P2的第四光栅组成，P1与P2的数值差值小于第一预设阈值；第一光栅及第二光栅用于待对准硅片x方向的位置偏差检测，第三光栅及第四光栅用于待对准硅片y方向的位置偏差检测；第一光栅与第二光栅在y方向上相邻排布，且第一光栅与第二光栅的刻线方向均沿y方向，第一光栅的中心位置与第二光栅的中心位置的x坐标相同；第三光栅与第四光栅在x方向上相邻排布，且第三光栅与第四光栅的刻线方向均沿x方向，第三光栅的中心位置与第四光栅的中心位置的y坐标相同； 探测光栅由周期为P2的第五光栅、周期为P1的第六光栅、周期为P2的第七光栅和周期为P1的第八光栅组成；第五光栅及第六光栅用于待对准硅片x方向的位置偏差检测，第七光栅及第八光栅用于待对准硅片y方向的位置偏差检测；第五光栅与第六光栅在y方向上相邻排布，且第五光栅与第六光栅的刻线方向均沿y方向，第五光栅的中心位置与第六光栅的中心位置的x坐标相同；第七光栅与第八光栅在x方向上相邻排布，且第七光栅与第八光栅的刻线方向均沿x方向，第七光栅的中心位置与第八光栅的中心位置的y坐标相同；硅片对准标记上第一光栅与第二光栅在y方向上的相对位置和探测光栅上第五光栅与第六光栅在y方向上的相对位置相同；硅片对准标记上第三光栅与第四光栅在x方向上的相对位置和探测光栅上第七光栅与第八光栅在x方向上的相对位置相同。

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