吉林大学冯泽邦获国家专利权
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龙图腾网获悉吉林大学申请的专利一种SiCf/Ti3Al复材紧固件的抗氧化涂层及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119710587B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411896487.6,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权一种SiCf/Ti3Al复材紧固件的抗氧化涂层及其制备方法是由冯泽邦;文懋;赵晨;齐金磊;王宁;庞昊鹏;王金鹏;张侃;郑伟涛设计研发完成,并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种SiCf/Ti3Al复材紧固件的抗氧化涂层及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于高熵材料技术领域,具体涉及一种SiCfTi3Al复材紧固件的抗氧化涂层及其制备方法。本发明提供了一种高熵硅硼化物,包括金属元素和非金属元素;所述金属元素包括Zr、Nb、Mo和W;所述非金属元素包括Si和B;所述金属元素和非金属元素的摩尔比为1:1.5~2;所述Zr、Nb、Mo和W的摩尔比为5~40:5~40:5~40:5~40;所述非金属元素中B的原子含量为5~25at.%。所述高熵硅硼化物在高温环境中,硼元素氧化的产物B2O3可以与SiO2结合生成硼硅酸盐玻璃相,形成连续致密的氧化层,提升抗氧化性。此外,韧性也明显提高,能够满足SiCfTi3Al复材紧固件服役时的抗氧化需求。
本发明授权一种SiCf/Ti3Al复材紧固件的抗氧化涂层及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高熵硅硼化物的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 在氩气环境中,将复合靶通过磁控溅射沉积于衬底表面,得到所述高熵硅硼化物;所述复合靶的材质包括MoSi2、WSi2和NbSi2,还包括ZrSi2、ZrB2和SiB6中的两种以上; 所述复合靶由3~5组靶材拼接而成;每组靶材独立地包括5~6块小靶材;每组靶材独立地包括MoSi2靶、WSi2靶和NbSi2靶,还包括ZrSi2靶、ZrB2靶和SiB6靶中的两种以上; 所述磁控溅射的条件包括:工作压强为0.6Pa~1.2Pa,偏压为-50~-150V,靶位数量为2~4,衬底与复合靶间距为8~12cm;所述磁控溅射使用直流电源,溅射电压为200~500V,溅射电流为0.6~2A; 所述衬底的温度为350~650℃; 所述高熵硅硼化物包括金属元素和非金属元素;所述金属元素包括Zr、Nb、Mo和W;所述非金属元素包括Si和B; 所述金属元素和非金属元素的摩尔比为1:1.5~2; 所述Zr、Nb、Mo和W的摩尔比为5~40:5~40:5~40:5~40; 所述非金属元素中B的原子含量为5~25at.%。
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