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龙图腾网获悉同济大学申请的专利一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119450353B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411677535.2，技术领域涉及：H04W4/02；该发明授权一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法是由石运梅;吕廷鋆;唐小伟;黄逸设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法，通过构建系统模型，确定系统组成元素即接入点AP、RIS、UE及其位置关系，建立信号模型和测量模型。进行Fisher信息分析，计算相关矩阵和参数，推导位置误差界表达式。进而提出最优RIS剖面设计策略，构建优化问题，利用矩阵分析和推导得出最优协方差矩阵及RIS剖面设计。同时考虑硬件限制，提出约束RIS剖面设计，构建带约束的优化问题，通过交替最小化技术求解，得到满足实际硬件约束的RIS剖面。本发明提升了用户设备UE定位精度。

本发明授权一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法在权利要求书中公布了：1.一种基于RIS的定位系统中剖面优化设计方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1，可重构智能表面系统模型构建：确定系统组成，建立包括AP、RIS、UE的定位系统，明确位置关系；设定信号传输参数；确定信号表达式；推导接收信号表达式；测量模型构建，确定离散信号采样方式；分解传播延迟；简化离散信号表达式；得到频域接收测量信号表达式； 步骤2，进行Fisher信息分析与PEB分析相关计算；设计针对RIS的最优剖面设计：以PEB为指标，在总功率约束下构建RIS剖面优化问题，推导得出最优协方差矩阵及RIS剖面设计； 步骤3，考虑约束条件下的RIS剖面优化设计：考虑RIS硬件限制，定义RIS剖面约束，构建带约束的优化问题，采用交替最小化技术，分别更新变量W和RIS剖面矩阵，迭代优化得到满足约束且性能好的RIS剖面，所述步骤3方法： 约束RIS剖面问题构建设计具体步骤： 步骤31，定义RIS剖面约束：考虑RIS硬件限制，对于第n个OFDM符号期间第l个元素的RIS配置[γr,n]l，定义实际的RIS剖面矩阵为Γr＝[γr,0,γr,1,…,γr,N-1]，其有效约束集为步骤32，构建优化问题：令Γu表示能够实现期望协方差Rr的无约束RIS剖面集合，其中W是满足WWH＝IL的任意半酉矩阵，在此约束下，构建RIS剖面设计问题为 由于约束的非凸性和WWH＝IL，该问题难以直接求解，因此我们在接下来的步骤用采用交替最小化技术来处理这个问题， W的更新方案具体步骤： 步骤33，优化问题简化：固定Γr，原优化问题简化为 结合WWH＝IL，对展开： 忽略常数项成本函数重写为 步骤34，奇异值分解求解：对进行奇异值分解，即其中是左酉矩阵，是包含非零实值特征值的对角矩阵，是右半酉矩阵且假设NL，将其 代入得: 通过分析不等式关系当时取等号，得到最优解为满足从而最大化目标函数， Γr的更新方案步骤具体步骤： 步骤35，代入W简化目标函数：将W的估计值代入原目标函数，得到关于Γr的优化问题 由于RIS每个元素可独立设计，进一步将问题分解为 其中 步骤36，考考虑单位模约束求解：考虑单位模约束，假设则优化问题改写为 利用三角函数关系得到封闭形式解为 步骤37，得到RIS剖面设计：利用相位估计值并考虑单位模约束，得到最终的RIS剖面设计通过交替使用上述关于Γr和W的更新方案，以迭代最小化的方式优化它们，直到满足特定的终止准则。

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