中国科学院宁波材料技术与工程研究所曹鸿涛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院宁波材料技术与工程研究所申请的专利一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119144928B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411390845.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法是由曹鸿涛;辛若晨;高俊华;丁文静;杨登设计研发完成，并于2024-10-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法，包括步骤：以金属靶材和陶瓷靶材为共溅射靶材，在预处理后的衬底上磁控溅射共沉积金属纳米线阵列‑陶瓷复合材料，浸入化学刻蚀液A中刻蚀后清洗后浸入化学刻蚀液B中15‑35℃刻蚀1‑15min进行孔径调控，清洗得到孔径调控后的固态纳米孔阵列模板；可实现纳米孔的直径0.1‑1.2nm的微调控。本发明中以靶材共溅射方式制备金属相和陶瓷相复合的固态纳米孔阵列模板，再通过路易酸或路易酸碱有效可调或可控的对纳米孔直径进行精准调控，实现亚纳米尺寸的调控，可适用于多种尺寸类似的生物大分子的检测领域。
本发明授权一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法在权利要求书中公布了：1.一种固态纳米孔阵列模板调控孔径的方法，其特征在于，包括步骤： 步骤1，对衬底超声清洗和等离子体处理； 步骤2，以金属靶材和陶瓷靶材为共溅射靶材，在衬底上磁控溅射共沉积金属纳米线阵列-陶瓷复合薄膜；所述金属靶材包括Ag靶、Cu靶、Al靶中一种或多种；所述陶瓷靶材包括为Al2O3、AlN、SiO2中一种或多种； 步骤3，将复合材料浸入化学刻蚀液A中刻蚀后清洗得到固态纳米孔阵列模板； 步骤4，将固态纳米孔阵列模板浸入化学刻蚀液B中15-35℃刻蚀1-15min进行孔径调控，清洗得到孔径调控后的固态纳米孔阵列模板； 所述孔径调控是指固态纳米孔阵列模板中纳米孔的直径变化为0.1-1.2nm； 所述化学刻蚀液A为NH3·H2O和或H2O2的水溶液，水溶液中溶质摩尔分数为0.3-1molL； 所述化学刻蚀液B为NaOH、KOH、HCl、H2SO4中的一种或几种的水溶液，水溶液中溶质摩尔分数为0.01-1molL。
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