北京大学李彦获国家专利权
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龙图腾网获悉北京大学申请的专利一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119059516B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310648758.5，技术领域涉及：C01B32/174；该发明授权一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法是由李彦;陈昱光;邱子龙设计研发完成，并于2023-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法。所述方法将基底插入碳纳米管分散液中，使基底脱离碳纳米管分散液液面移动，从而在基底上形成高密度碳纳米管平行阵列。制备方法简单，制备条件宽松，容易实现。得到的高密度碳纳米管平行阵列能够连续均匀地沉积在基底上，满足对碳纳米管平行阵列的使用要求。
本发明授权一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高密度碳纳米管平行阵列的制备方法，所述方法中，将基底插入碳纳米管分散液中，使基底脱离碳纳米管分散液液面移动，在基底上形成高密度碳纳米管平行阵列， 所述碳纳米管分散液为将碳纳米管分散在混合溶剂中，所述混合溶剂为两种或两种以上溶剂的均相混合溶剂， 所述混合溶剂中，各组分蒸气压与加权平均蒸气压之差以及表面张力与加权平均表面张力之差的乘积进行体积分数加权求平均值为负值，且其绝对值大于等于2kPa·mNm， 所述混合溶剂的表面张力为10～80mNm， 所述碳纳米管分散液在基底上的接触角为5°～75°。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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