重庆芯联微电子有限公司林义栩获国家专利权
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龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118838127B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411085436.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法是由林义栩;陈咏翔;曾鼎程;范富杰;胡展源设计研发完成，并于2024-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法，测量方法包括：提供光阻层，在光阻层定义出目标光阻图形，目标光阻图形上设置有锚定点；依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形；基于实际光阻图形的锚定点位置确定目标光阻图形的目标边缘；通过测量获取实际光阻图形的实际边缘；基于实际边缘与目标边缘的间距，获取实际光阻图形的光阻消退量。本发明基于锚定点可以获取光阻图形准确的目标边缘，及通过测量获得光阻图形的实际边缘后，通过实际边缘与目标边缘的间距，可以准确获得光阻图形的实际光阻消退量。
本发明授权光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种光阻消退量的测量方法，其特征在于，所述测量方法包括： 提供光阻层，在所述光阻层定义出目标光阻图形，所述目标光阻图形上设置有锚定点； 依据定义的目标光阻图形对所述光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形； 基于所述实际光阻图形的锚定点位置确定所述目标光阻图形的目标边缘； 通过测量获取所述实际光阻图形的实际边缘； 基于所述实际边缘与所述目标边缘的间距，获取所述实际光阻图形的光阻消退量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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