东京毅力科创株式会社本间学获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118398517B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310706160.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置是由本间学设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了：提供一种能够在减少占地面积的同时提高排气效率的基板处理装置。根据本公开的一个方面的基板处理装置包括：处理模块，具有在第一水平方向上隔开的第一侧壁和第二侧壁；以及输送模块，与所述第一侧壁相邻地布置，并且向所述处理模块输送基板，其中，所述处理模块具有在与所述第一水平方向正交的第二水平方向上彼此相邻的第一处理容器和第二处理容器，在所述第二侧壁上，设置有用于对所述第一处理容器和所述第二处理容器进行维护的共同的维护开口。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，包括： 处理模块，具有在第一水平方向上隔开的第一侧壁和第二侧壁；以及 输送模块，与所述第一侧壁相邻地布置，并且向所述处理模块输送基板， 其中，所述处理模块具有在与所述第一水平方向正交的第二水平方向上彼此相邻的第一处理容器和第二处理容器， 在所述第二侧壁上，设置有用于对所述第一处理容器和所述第二处理容器进行维护的共同的维护开口， 所述维护开口被设置成在所述第二水平方向上包含所述第一处理容器与所述第二处理容器的中间位置， 所述第二侧壁具有一对第二倾斜部，当从铅垂方向观察时，所述一对第二倾斜部以具有向所述第一侧壁侧凸出的第二顶部的方式布置成V字状， 所述第二顶部在所述第二水平方向上位于所述第一处理容器与所述第二处理容器之间。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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