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龙图腾网获悉江苏高光半导体材料有限公司申请的专利一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118048607B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410393027.5，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置是由王广成;甘帅燕设计研发完成，并于2024-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置。其中的制作方法包括：选取原料片材；在原料片材上加工出至少一个用于蒸镀的图案区域，图案区域内具有若干上下贯通的开口；所述图案区域的加工方式包括如下步骤：使用蚀刻药液A，在原料片材的第一表面和第二表面分别蚀刻出若干第一凹部和与第一凹部一一对应的若干第二凹部，第二凹部与第一凹部相互贯通，且在两者在相接处形成有第一凸部；将蚀刻药液A与至少一种不具备蚀刻效力的辅助气体B组合制备成水汽二流体；使用所述水汽二流体，且从第二凹部所在的一侧对第一凸部进行蚀刻，以去除第一凸部并形成第三凹部；由第一凹部、第二凹部和第三凹部分别形成所述开口内的第一孔体段、第二孔体段和第三孔体段。上述方法及由此制作的FMM、掩膜装置，能够减少甚至消除蒸镀时的阴影缺陷，且FMM的CD均一性易于控制，良率高。

本发明授权一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置在权利要求书中公布了：1.一种精密金属掩膜版的制作方法，包括： 选取原料片材； 在原料片材上加工出至少一个用于蒸镀的图案区域，图案区域内具有若干上下贯通的开口； 其特征在于， 所述图案区域的加工方式包括如下步骤： 使用蚀刻药液A，在原料片材的第一表面和第二表面分别蚀刻出若干第一凹部和与第一凹部一一对应的若干第二凹部，第二凹部与第一凹部相互贯通，且在两者相接处形成有第一凸部； 将蚀刻药液A与至少一种不具备蚀刻效力的辅助气体B组合制备成水汽二流体，蚀刻药液A与辅助气体B的体积流量之比选自1∶4～4∶1； 使用所述水汽二流体，且从第二凹部所在的一侧对第一凸部进行蚀刻，以去除第一凸部并形成第三凹部； 由第一凹部、第二凹部和第三凹部分别形成所述开口内的第一孔体段、第二孔体段和第三孔体段； 其中，第一孔体段的深度为H1，第二孔体段的深度为H2，第三孔体段的深度为H3，并满足：H2≥H3＞H1，H1趋近于0但不为0，且H1≤1μm， 第二孔体段具有倾角β，第三孔体段具有倾角γ，β和γ均为锐角，且β≥γ， 第一孔体段与第三孔体段在相接处形成有第二凸部，第二凸部与第二孔体段的口部边缘之间的连线具有倾角θ，45°≤θ≤55°。

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