天津三环乐喜新材料有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司贺元辉获国家专利权
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龙图腾网获悉天津三环乐喜新材料有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司申请的专利用于钕铁硼磁体的抛光液、钕铁硼磁体的表面前处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117210815B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311021772.9，技术领域涉及：C23F3/06；该发明授权用于钕铁硼磁体的抛光液、钕铁硼磁体的表面前处理方法是由贺元辉;张大鹏;白晓刚;于海华设计研发完成，并于2023-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于钕铁硼磁体的抛光液、钕铁硼磁体的表面前处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于钕铁硼磁体的抛光液、钕铁硼磁体的表面前处理方法。抛光液包括腐蚀剂、氧化剂和缓冲剂；腐蚀剂包括硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种；氧化剂包括硝酸盐和或过氧化氢；缓冲剂包括柠檬酸和或酒石酸；硝酸盐为硝酸钠和或硝酸钾。本发明提供的抛光液不仅可以去除磁体表面的氧化层，保证酸洗效果，而且还能解决酸洗后磁体表面挂灰问题。
本发明授权用于钕铁硼磁体的抛光液、钕铁硼磁体的表面前处理方法在权利要求书中公布了：1.一种用于钕铁硼磁体的抛光液，其特征在于，包括腐蚀剂、氧化剂和缓冲剂； 其中，所述腐蚀剂包括硫酸、盐酸和磷酸中的一种或多种； 所述氧化剂包括硝酸盐和或过氧化氢； 所述缓冲剂包括柠檬酸和或酒石酸； 所述硝酸盐为硝酸钠和或硝酸钾；其中，所述腐蚀剂的含量为0.5wt%~5wt%，所述氧化剂的含量为1.5wt%~30wt%，所述缓冲剂的含量为1wt%~5wt%，余量为水。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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