拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司龙占勇获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司申请的专利衬底加热装置及外延设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223433572U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423010274.7，技术领域涉及：C30B25/10；该实用新型衬底加热装置及外延设备是由龙占勇;韩雪岭;李洪;梁展程;刘定财;黄耿斌设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底加热装置及外延设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体处理设备技术领域，公开了衬底加热装置及外延设备，衬底加热装置包括第一加热体与第二加热体、电极柱和连接件，第二加热体周向环绕设置于第一加热体外侧，第一加热体与第二加热体之间具有间隙，第一加热体与第二加热体均设置有至少两个挂耳，挂耳上设置有第一安装孔，挂耳上设置有第一安装孔电极柱与挂耳一一对应设置，电极柱的侧壁设置有嵌槽，嵌槽内开设还有第二安装孔，挂耳嵌入嵌槽，且挂耳的下表面与嵌槽的槽壁贴合时，第一安装孔能够与第二安装孔相对；连接件穿过第一安装孔与第二安装孔固定电极柱与挂耳，外延设备包括反应腔体以及上述的衬底加热装置，衬底加热装置设置于反应腔体内，使电极与加热体接触良好。
本实用新型衬底加热装置及外延设备在权利要求书中公布了：1.衬底加热装置，其特征在于，包括： 第一加热体1以及第二加热体2，所述第二加热体2周向环绕设置于所述第一加热体1外侧，所述第一加热体1与所述第二加热体2之间具有间隙，所述第一加热体1与所述第二加热体2均设置有至少两个挂耳3，所述挂耳3上设置有第一安装孔31； 电极柱4，所述电极柱4与所述挂耳3一一对应设置，所述电极柱4的侧壁设置有嵌槽41，所述嵌槽41内开设还有第二安装孔42，所述挂耳3嵌入所述嵌槽41，且所述挂耳3的下表面与所述嵌槽41的槽壁贴合时，所述第一安装孔31能够与所述第二安装孔42相对； 连接件5，所述连接件5穿过所述第一安装孔31与所述第二安装孔42固定所述电极柱4与所述挂耳3。
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