桂林电子科技大学李华获国家专利权
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龙图腾网获悉桂林电子科技大学申请的专利等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119255462B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411198167.3,技术领域涉及:H05H1/26;该发明授权等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用是由李华;梁振保;王风云;蒋雪萍;杜晓霞设计研发完成,并于2024-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用。该等离子体射流喷嘴包括多级分流锥,等离子体射流每经过一层级分流锥,分流为沿分流锥的锥面流动的侧向流体和沿分流孔流动的中心流体。侧向流体流经支撑杆的后端分叉,形成多股均匀分布的等离子体流。中心流体逐级分流后,在最末一级分流孔的末端的开孔中分为多股等离子体流。而且各级分流锥的尺寸逐级缩小,使得每级分流中侧向流体的流量占比逐渐增大,保证后续层级形成的等离子体流具有足够流量,从而保证各层级的等离子体流的流速较为接近。该喷嘴结构较为简单,对加工精密度要求不高,使得等离子体射流形成多股流速接近的等离子体流,极大的增大等离子体射流的作用面积。
本发明授权等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用在权利要求书中公布了:1.一种等离子体射流喷嘴,其特征在于,包括固定部、多组支撑杆和分流锥;所述分流锥包括一级分流锥和二级分流锥,所述固定部与所述一级分流锥、所述二级分流锥同轴且依次间隔设置; 所述固定部具有沿轴向贯穿的安装孔,所述安装孔用于嵌套并固定在等离子体射流机构的介质管外; 所述一级分流锥、所述二级分流锥同向设置,均为小端朝向所述安装孔,且所述一级分流锥、所述二级分流锥的锥度角逐级增大;所述一级分流锥、所述二级分流锥的中心均具有沿轴向分布的分流孔;所述一级分流锥的小端的直径小于固定部的安装孔的孔径且所述一级分流锥的大端的直径大于固定部的安装孔的孔径;所述二级分流锥的小端的直径小于所述一级分流锥的分流孔位于大端的孔径且所述二级分流锥的大端的直径大于所述一级分流锥的分流孔位于大端的孔径;所述二级分流锥的分流孔末端具有多个彼此间隔分布的开孔; 所述一级分流锥的锥度角为45~50°,所述二级分流锥的锥度角为50~55°;所述一级分流锥和所述二级分流锥的分流孔均为锥形孔,均沿小端至大端的方向逐渐增大; 所述安装孔的直径:所述一级分流锥的分流孔位于小端的直径:所述二级分流锥的分流孔位于小端的直径为4~4.5:1.5~2:1.2~1.5; 所述固定部与一级分流锥之间、一级分流锥和二级分流锥之间均通过对应组的支撑杆连接,任一组所述支撑杆的前端位于安装孔或对应的分流孔之外,后端位于对应分流锥的锥面靠近大端一侧沿周向均匀分布;任一组所述支撑杆的后端位于对应分流锥的锥面的大端外沿。
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