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龙图腾网获悉上海立芯软件科技有限公司申请的专利布局合法化检查和填充单元插入方法及装置、设备、介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119129510B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411195403.6，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权布局合法化检查和填充单元插入方法及装置、设备、介质是由邹鹏;陈国豪设计研发完成，并于2024-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本布局合法化检查和填充单元插入方法及装置、设备、介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种布局合法化检查和填充单元插入方法及装置、设备、介质，应用于集成电路设计自动化技术领域，在集成电路设计的合法化阶段模拟填充单元插入，在填充单元实际插入前提前检测出潜在的违规问题，并通过单元移动消除违规，实现合法化阶段与填充单元插入阶段相互协同，确保了填充单元插入阶段后，物理电路设计不违反离子注入层约束，从而显著提升了整体设计的合规性，使得版图设计在满足复杂工艺要求的同时，有效缩短了设计周期。

本发明授权布局合法化检查和填充单元插入方法及装置、设备、介质在权利要求书中公布了：1.一种集成电路版图布局合法化检查方法，其特征在于，包括： 根据工艺节点和离子注入层约束，通过动态规划将电路设计版图生成对应的查找表；其中，所述离子注入层约束至少包括：行内最小宽度约束、行内最小间距约束、行间最小宽度约束和行间最小间距约束；所述查找表包括：推理模式查找表和违规模式查找表； 在生成查找表时，先根据模式大小确定每个单元位点的分配情况，然后根据单元位点的分配情况确定每个单元位点是否均分配有指定类型，若是，则将模式记录在第一模式集合中，其中第一模式集合中的模式无需推理并只需判断模式是否违规； 其中，所述模式大小由工艺参数决定； 每个单元位点的分配情况按下式确定： ImplantType*2+1，ImplantType表示工艺节点的注入类型数量；乘2表示分配为逻辑单元或填充单元；加1表示分配为宏块或其他不可放置区域； 对每一个待布局单元和放置位置进行如下遍历来得到合法化的版图布局结果： 将当前待布局单元尝试放置在当前指定的放置位置，然后以当前待布局单元为中心，根据预设的识别窗口最佳大小生成当前处理窗口，并在当前处理窗口给定一个离子注入层，接着根据所述推理模式查找表对当前处理窗口内的空白位点进行所述离子注入层的预填充推理，直至无法进一步推理，最后根据所述违规模式查找表判断当前处理窗口是否存在违规，并根据违规情况和已放置的其他单元放置情况，决定下一轮遍历对应的待布局单元和放置位置； 其中，待布局单元包括待布局的逻辑单元和填充单元； 所述根据所述推理模式查找表对当前处理窗口内的空白位点进行所述离子注入层的预填充推理，直至无法进一步推理，包括： 根据所述推理模式查找表，判断当前处理窗口内是否有空白位点必须被分配特定的离子注入类型； 如果有，则标记所述空白位点；反之，填充推理结束，进入违规检测模式。

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