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龙图腾网获悉福州大学申请的专利一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118392824B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410310683.4，技术领域涉及：G01N21/41；该发明授权一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法是由李劲林;王文铉;张秋坤;钟舜聪;林杰文设计研发完成，并于2024-03-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法在说明书摘要公布了：本发明提出一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法，包括光源、光纤耦合器、参考臂、探测臂组成的光学干涉装置，还包括光谱仪和上位机；所述干涉装置在测量双折射晶体的厚度与群折射率时，将晶体的厚度与群折射率调制生成干涉光信号，具体为：光源的光经光纤耦合器分为参考光和探测光，参考光经参考臂反射而重新进入到光纤耦合器中；探测光经探测臂聚焦在被测样品表面并发生背面反射后经光路传输至光纤耦合器，与反射回的参考光在光纤耦合器处汇合并发生干涉，形成的干涉光信号经过光纤耦合器传输后经光谱仪传输至上位机用于测量分析；本发明为双折射晶体光速参数测量提供了一种高精度、快速且简单的测量方法。

本发明授权一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量方法，采用双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置，其特征在于：所述方法以光纤耦合器将光源的光分为参考光和探测光，探测光光斑聚焦于待测样品表面并发生背面反射，反射光再与参考光在光纤耦合器处汇合并发生干涉形成干涉光信号；所述方法利用宽带光频域相干原理将双折射晶体各反射层的光程信息转换为相应频率的干涉条纹，采用快速傅里叶变换及基于汉宁窗的能量频谱校正方法实现光程的精确计算，并以两步测量法来对比测量作业插入样品前后光程的变化，以实现晶体厚度以及O光和E光的群折射率的精确测量； 所述测量方法用于铌酸锂晶圆的测量，被测样品插于反射镜前；具体包括以下步骤； 步骤S1、使用单面抛光的毛玻璃13作为被测样品后方的反射镜，利用探测臂对反射镜采集干涉信号，此干涉信号即包含反射镜的光程信息； 步骤S2、保持样品臂与反射镜之间的位置关系不动，将Y切0°方向的双面抛光的铌酸锂晶圆放置与反射镜与探头之间；然后采集插入样品后的干涉信号；所以光谱仪采集到的干涉信号为： 其中，干涉信号的构成分为直流项、干涉项、自相干项三部分，具体为：参考镜以及样品各反射层直接反射信号、参考镜与样品各层的干涉信号、样品各层的自相干信号； 式中sk是光源的光谱密度函数，I代表反射率，下标M和S分别代表参考镜以及样品，下标n和m代表样品臂中第n个和m个反射层；i是虚数符号，即k是波长λ的倒数，k＝1λ；ΔL指的是样品反射层与参考镜之间的光程差OPD； 步骤S3、对S2采集到的干涉信号序列进行波数空间均匀化重采样，得到随波数严格周期变化的信号序列，对干涉信号进行傅里叶变换得： 其中，Gτ是光源的时间相干函数，与光源的谱密度函数两者互为傅里叶变换对；δτ是狄拉克函数； 步骤S4、由于时域光谱信息被截断为有限长度产生能量泄露，使用基于汉宁窗的频谱校正方法进行干涉信号频率周期数的精确提取；以极大提高光程的测量精度达到纳米甚至亚纳米级别；干涉信号中所加载的汉宁窗为： wHnn＝0.5-0.5·cos2πnN 其中，n＝1,2,…,N-1,N为汉宁窗的长度； 汉宁窗能量中心矫正算法为： 其中，i为谱线号，G为第i条谱线所对应的幅值； 步骤S5、精确提取出信号的频率周期数之后即获得干涉信号的光程，然后依据两部测量法计算得出晶圆样品的厚度以及样品中o光和e光的折射率，然后通过折射率与群折射率的关系计算出样品的群折射率。

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