芝浦机械电子装置株式会社今冈裕一获国家专利权
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龙图腾网获悉芝浦机械电子装置株式会社申请的专利清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117753694B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311128056.0，技术领域涉及：B08B1/12；该发明授权清洗装置是由今冈裕一设计研发完成，并于2023-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种清洗装置，其可防止清洗液侵入至旋转机构，并且可防止来自旋转机构的尘埃附着于基板。实施方式的清洗装置包括：多个辊，与基板的外周接触而使基板旋转；旋转机构，使辊经由旋转轴而旋转；罩，介隔存在于辊与旋转机构之间，覆盖旋转机构；喷出口，设置于罩，向罩与辊之间喷出气体；负压区域，设置于罩中的旋转机构侧，通过排气而成为相较于罩的外部的气压为负压；清洗液喷出部，对基板喷出清洗液；以及清洗部，通过使刷与旋转的基板的至少一个面接触来对基板的面进行清洗。
本发明授权清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种清洗装置，其特征在于，包括： 多个辊，与基板的外周接触而使所述基板旋转； 旋转机构，使所述辊经由旋转轴而旋转； 罩，介隔存在于所述辊与所述旋转机构之间，覆盖所述旋转机构； 喷出口，设置于所述罩，向所述罩与所述辊之间喷出气体； 负压区域，设置于所述罩中的所述旋转机构侧，通过排气而成为相较于所述罩的外部的气压为负压； 清洗液喷出部，对所述基板喷出清洗液；以及 清洗部，通过使刷与旋转的所述基板的至少一个面接触来对所述基板的面进行清洗。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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