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龙图腾网获悉河南师范大学申请的专利一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117658085B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311691732.5，技术领域涉及：C01B21/082；该发明授权一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法及应用是由王红菊;王莎莎;张嘉昵;李洁;朱桂芬;武大鹏;蒋凯设计研发完成，并于2023-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法及应用，属于光催化材料的合成技术领域。首先采用传统热缩聚方法制备石墨相氮化碳纳米片，再将其与含硼烷阴离子的物质进行超声混匀后，将所得固体粉末激光处理得到硼掺杂氮化碳纳米片。本发明所使用的激光处理法具有合成速度快，反应可控，能耗低，工序简单等优势，易于扩大生产；且该方法合成的硼掺杂石墨相氮化碳具有氰基基团，同时实现了石墨相氮化碳纳米片的缺陷修饰和元素掺杂。该方法制得的硼掺杂石墨相氮化碳具有快速的电荷分离速率和较高的两电子氧还原选择性，在模拟太阳光下表现出良好的光催化产H2O2性能，其H2O2产率约为单独石墨相氮化碳的3倍。

本发明授权一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种硼掺杂石墨相氮化碳的制备方法，其特征在于具体步骤为： 步骤S1，将三聚氰胺充分研磨后置于刚玉氧化铝瓷舟中，密封后置于管式炉中，在惰性气氛下升温至500~600℃并保持2~3h，冷却至室温后进行研磨，研磨后再次置于刚玉氧化铝瓷舟中，密封后置于管式炉中，在惰性气氛下升温至500~600℃并保持4~5h，冷却至室温后用去离子水反复洗涤并干燥，得到产物g-C3N4纳米片； 步骤S2，以硼烷阴离子作为硼源，与步骤S1得到的g-C3N4纳米片在水中超声混合均匀后进行干燥，再将所得固体研磨后置于激光器下进行激光处理得到目标产物硼掺杂g-C3N4纳米片，该硼掺杂g-C3N4纳米片具有氰基键，同时实现了石墨相氮化碳纳米片的缺陷修饰和元素掺杂，具有快速的电荷分离速率和高的两电子氧还原选择性，能够增强可见光利用率并抑制光生电子-空穴对的复合，同时能够增强硼掺杂g-C3N4纳米片表面的电荷极化，有利于提高水中溶解氧的吸附和活化，达到高的光催化产H2O2活性，进而能够作为催化剂用于光催化产H2O2； 所述硼烷阴离子为BH4-、B3H8-或B9H12-中的一种或多种，激光器为10.60μm的CO2激光器，激光功率为10~18W，激光时间为5~20min。

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