上海盛剑微电子有限公司张伟明获国家专利权
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龙图腾网获悉上海盛剑微电子有限公司申请的专利一种蚀刻液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116411278B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310395606.9，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权一种蚀刻液及其制备方法与应用是由张伟明;聂航;章学春;沈楠;李玉兴设计研发完成，并于2023-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种蚀刻液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种蚀刻液及其制备方法与应用，属于蚀刻剂技术领域。按质量百分数计，该蚀刻液包括2.00‑15.00wt％的过氧酸、2.00‑15.00wt％的有机酸A及2.00‑25.00wt％的有机酸B，余量为水；有机酸A包括甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、辛酸、己二酸、乙二酸、丙二酸及苯甲酸中的至少一种；有机酸B包括甲基磺酸、苹果酸、柠檬酸、马来酸及酒石酸中的至少一种。通过以上述蚀刻液对银与ITO膜构成的多层膜的银进行刻蚀，不仅避免了使用磷酸所导致的对基板中钛铝钛层有一定的损伤且不利于环保的问题，而且可有效去除ITOAgITO结构，形成优异的轮廓，没有银与ITO残渣，也无Ag的再吸附现象发生。
本发明授权一种蚀刻液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻液，其特征在于，按质量百分数计，所述蚀刻液包括2.00wt%-15.00wt%的过氧酸、2.00wt%-15.00wt%的有机酸A、2.00wt%-25.00wt%的有机酸B、10.00wt%-30.00wt%的无机盐以及0.01wt%-1.00wt%的金属形貌改善剂，余量为水； 其中，所述有机酸A包括甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、辛酸、己二酸、乙二酸、丙二酸、苯甲酸、苯乙酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、戊酸、己酸以及癸酸中的至少一种； 所述有机酸B包括甲基磺酸、苹果酸、马来酸以及酒石酸中的至少一种； 所述无机盐包括硫酸钠、硫酸钾、硫酸钙、硫酸铁、硫酸亚铁、氯化钠、氯化钙、氯化钾、硫酸氢钠、硝酸钾、硝酸铵、硝酸钠、硝酸银、硝酸钙、磷酸二氢钠以及硫酸铵中的至少一种； 所述金属形貌改善剂包括硝酸铁、硝酸亚铁、硫酸铁以及硫酸亚铁中的至少一种。
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