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龙图腾网获悉深圳国微福芯技术有限公司申请的专利基于模型的光学临近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116224727B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310227571.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权基于模型的光学临近修正方法是由杜杳隽;陈红设计研发完成，并于2023-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于模型的光学临近修正方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于模型的光学临近修正方法，包括：根据待修正的版图图形建立光学临近修正的第一模型，所述第一模型对所述待修正的版图图形的覆盖范围大于等于预设覆盖范围；通过第一模型获得硅片表面未被第一模型所覆盖到的弱点区域，以及被第一模型所覆盖到的正常区域；基于弱点区域建立围绕弱点区域形成的至少一个缓冲区，并基于弱点区域的数据建立第二模型；将所述待修正的版图图形的图形边缘分割成线段，每一个线段被配置一个评估点；根据每一个评估点的位置，为对应的线段配置对应权重的第一模型和或第二模型进行光学临近修正。本发明将版图图形位于不同区域的部分采用不同模型进行修正，从而提高修正效果，避免弱点带来的光刻误差。

本发明授权基于模型的光学临近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种基于模型的光学临近修正方法，其特征在于，包括： 根据待修正的版图图形建立光学临近修正的第一模型，所述第一模型对所述待修正的版图图形的覆盖范围大于等于预设覆盖范围； 通过第一模型对所述待修正的版图图形进行光学临近修正后，并将修正后的图形转移到硅片表面，并获得硅片表面未被第一模型所覆盖到的弱点区域，以及被第一模型所覆盖到的正常区域； 基于弱点区域建立围绕弱点区域形成的至少一个缓冲区，并基于弱点区域的数据建立第二模型； 将所述待修正的版图图形的图形边缘分割成多段线段，每一个线段被配置一个评估点； 当所述评估点位于弱点区域，则采用第二模型对所述评估点对应的线段进行光学临近修正；当所述评估点位于正常区域，则采用第一模型对所述评估点对应的线段进行光学临近修正；当所述评估点位于缓冲区域，则为第一模型和第二模型配置对应权重，采用第一模型和第二模型对所述评估点对应的线段进行光学临近修正。

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