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龙图腾网获悉诺华股份有限公司申请的专利杂芳基取代的螺哌啶基衍生物及其药物用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157404B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180060257.4，技术领域涉及：C07D471/10；该发明授权杂芳基取代的螺哌啶基衍生物及其药物用途是由M·布沙博伊纳;陈昕;A·K·张;A·J·卡尚;T·B·赫尔利;N·拉比-吉盖尔;W·米尔茨;D·奥兰;T·帕特尔;S·拉亚果帕兰;T·罗恩;D·A·桑达姆;G·托马;R·B·提库尔;R·瓦尔奇利设计研发完成，并于2021-08-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本杂芳基取代的螺哌啶基衍生物及其药物用途在说明书摘要公布了：本发明提供了一种具有式I的化合物或其药学上可接受的盐；I其中R1、R2、R4和X1是本文定义的，一种制造本发明的化合物的方法，及所述化合物的治疗用途。本发明进一步提供了药理活性剂和药物组合物的组合。

本发明授权杂芳基取代的螺哌啶基衍生物及其药物用途在权利要求书中公布了：1.式I的化合物 或其药学上可接受的盐，其中： R1选自其中*描绘了与螺哌啶基部分的氮的附接点； R2是H或氟； X1是CH2或O； R4选自由以下组成的组：嘧啶基、吡嗪基、三唑基、三嗪基、吡啶基、吡啶氧化物、嘧啶氧化物、吡嗪氧化物、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、吲唑基、吡唑并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、三唑并哒嗪基、苯并噁唑基、噁二唑基、四唑基、噻二唑基、噁唑基、和噻唑基，其各自任选地被一个或多个R3取代基取代； 每个R3独立地选自C6-10芳基、苄基、C1-6烷基、羟基C1-6烷基、卤代、卤代C1-6烷基、OR5、CN、COOC1-6烷基、OH、C3-7环烷基、C3-7环烯基、5-10元杂芳基、4-10元饱和杂环基、-CONH2、和NRaRb，其中Ra和Rb独立地是H或C1-6烷基； 其中所述C6-10芳基、4-10元饱和杂环基、5-10元杂芳基、C3-7环烷基、C3-7环烯基进一步任选地被独立地选自以下的一个或多个取代基取代：OH、NH2、C1-6烷基、卤代和卤代C1-6烷基；并且其中 R5是C1-6烷基、卤代C1-6烷基、羟基C1-6烷基、苯基或4-10元饱和杂环基； 其中苯基和4-10元饱和杂环基任选地被选自以下的一个或多个取代基取代：C1-6烷基和卤代； 条件是当R2是F时，则X1是CH2， 其中所述5-10元杂芳基中的每个杂原子独立地选自O、N或S。

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