中山新诺科技股份有限公司陈冠楠获国家专利权
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龙图腾网获悉中山新诺科技股份有限公司申请的专利曝光系统及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115963701B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111176805.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光系统及光刻机是由陈冠楠;梅文辉设计研发完成，并于2021-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光系统及光刻机在说明书摘要公布了：本发明公开了一种曝光系统及光刻机，该曝光系统包括光源、微镜阵列和微透镜阵列，光源用于发出光线；微镜阵列用于接收光线并将光线转换为第一光斑阵列；微透镜阵列和光源分别位于微镜阵列的相对两侧，微透镜阵列用于接收第一光斑阵列并对第一光斑阵列进行聚焦处理形成第二光斑阵列，微透镜阵列将第二光斑阵列投射到基板上。该光刻机包括前述的曝光系统。微镜阵列将所有的光线进行图形化处理并形成第一光斑阵列，微透镜阵列对第一光斑阵列聚焦处理为第二光斑阵列，微透镜阵列中每一微透镜与微镜阵列中每一微镜是一一对应的，相比传统曝光系统，无需考虑微透镜阵列与DMD微镜之间的对位精度问题。
本发明授权曝光系统及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种曝光系统，其特征在于，包括： 光源，所述光源用于发出光线； 微镜阵列，所述微镜阵列用于接收所述光线并将所述光线转换为第一光斑阵列； 微透镜阵列，所述微透镜阵列和所述光源分别位于所述微镜阵列的相对两侧，所述微透镜阵列用于接收所述第一光斑阵列并对所述第一光斑阵列进行聚焦处理形成第二光斑阵列，所述微透镜阵列将所述第二光斑阵列投射到基板上，所述微透镜阵列包括透光件和设在所述透光件上的光敏件，所述光敏件由光敏材料制成；所述光敏件在所述第一光斑阵列的首次辐照下形成所述微透镜阵列，以使所述微透镜阵列中每一微透镜与所述微镜阵列中的每一微镜一一对应。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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