东京毅力科创株式会社田之上隼斗获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115335965B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180021036.6，技术领域涉及：H01L21/301；该发明授权基板处理方法和基板处理装置是由田之上隼斗;山下阳平设计研发完成，并于2021-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理装置在说明书摘要公布了：一种对第一基板与第二基板接合而成的重合基板进行处理的基板处理方法，在所述第二基板上形成有激光吸收层，所述处理方法包括：对所述激光吸收层照射脉冲状的激光来形成剥离改性层，并在所述激光吸收层的内部蓄积应力；以及连锁地释放所蓄积的所述应力，来将所述第二基板剥离。
本发明授权基板处理方法和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，是对第一基板与第二基板接合而成的重合基板进行处理的基板处理方法，在所述第二基板上形成有激光吸收层， 所述基板处理方法包括： 对所述激光吸收层脉冲状地照射激光来形成剥离改性层，并在所述激光吸收层的内部蓄积应力，其中，一边以使所述剥离改性层以俯视时彼此不重叠的方式形成多个所述剥离改性层，一边脉冲状地照射所述激光；以及 连锁地释放所蓄积的所述应力，来将所述第二基板剥离。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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