株式会社日立高新技术许振斌获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利等离子处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115119543B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180004749.1，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权等离子处理装置是由许振斌;田村仁设计研发完成，并于2021-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子处理装置在说明书摘要公布了：提供等离子处理装置，能减少处理室内的等离子的分布的不均匀，配合所期望的蚀刻工艺将处理室内的等离子分布调节成中高、周围高或平坦分布。等离子处理装置具备：对样品进行等离子处理的处理室；供给用于生成等离子的微波的高频电力的高频电源；传输微波的矩形波导管；与矩形波导管连接并向处理室传输微波的圆形波导管；和载置样品的样品台，在该等离子处理装置中，矩形波导管具备：上下分隔形成的上部矩形波导管以及下部矩形波导管；和阻断从高频电源供给的微波的高频电力且配置有电介质的阻断部。圆形波导管具备：与上部矩形波导管连接且形成于内部的内侧波导管；和与下部矩形波导管连接且形成于内侧波导管的外侧的外侧波导管。阻断部的宽度比阻断部以外的矩形波导管的宽度窄。
本发明授权等离子处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子处理装置，具备： 对样品进行等离子处理的处理室； 供给用于生成等离子的微波的高频电力的高频电源； 传输所述微波的矩形波导管； 与所述矩形波导管连接并向所述处理室传输微波的圆形波导管；和 载置所述样品的样品台， 所述等离子处理装置的特征在于， 所述矩形波导管具备： 上下分隔形成的上部矩形波导管以及下部矩形波导管；和 阻断从所述高频电源供给的微波的高频电力且配置有电介质的阻断部， 所述圆形波导管具备： 与所述上部矩形波导管连接且形成于内部的内侧波导管；和 与所述下部矩形波导管连接且形成于所述内侧波导管的外侧的外侧波导管， 所述阻断部的宽度比所述阻断部以外的所述矩形波导管的宽度窄。
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