株式会社日立高新技术市川贵大获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利等离子处理装置以及等离子处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115004864B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080004112.8,技术领域涉及:H05H1/46;该发明授权等离子处理装置以及等离子处理方法是由市川贵大;弘中嘉之;大越康雄设计研发完成,并于2020-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子处理装置以及等离子处理方法在说明书摘要公布了:本发明的等离子处理装置之一的特征在于,具备:处理室,对试样进行等离子处理;第一高频电源,经由匹配器供给用于生成等离子的第一高频功率;试样台,载置所述试样;第二高频电源,向所述试样台供给第二高频功率;以及控制装置,控制所述匹配器,以使得在通过具有多个振幅值并周期性反复的波形调制所述第一高频功率的情况下,在与规定用于通过所述匹配器进行匹配的要件的模式对应的期间进行所述匹配,所述期间是与所述多个振幅值中的任1个对应的所述波形的各期间。
本发明授权等离子处理装置以及等离子处理方法在权利要求书中公布了:1.一种等离子处理装置,其特征在于,具备: 处理室,利用电磁波产生器输出的电磁波对试样进行等离子处理; 第一高频电源,经由匹配器向所述电磁波产生器供给用于生成等离子的第一高频功率; 试样台,载置所述试样; 第二高频电源,向所述试样台供给第二高频功率;以及 控制装置,控制所述匹配器, 所述匹配器在所述第一高频电源与所述电磁波产生器之间进行阻抗匹配, 所述控制装置根据具有多个振幅值的周期模式对所述第一高频功率进行调制,并且在该周期模式内输出所述多个振幅值中的任意振幅值的每个期间,选择与调制后的所述第一高频功率的输出值、占空比以及平均功率值各自的规定值对应地设置的模式中的任意模式,基于选择出的该模式来控制由所述匹配器进行的所述阻抗匹配。
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