株式会社日立高新技术铃木达也获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利等离子体处理装置以及等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115004863B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080004065.7，技术领域涉及：H05H1/46；该发明授权等离子体处理装置以及等离子体处理方法是由铃木达也;樫部诚设计研发完成，并于2020-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置以及等离子体处理方法在说明书摘要公布了：在由等离子体处理装置进行的晶片处理时，为了抑制第一高频电力经由等离子体而向第二高频电源的输出线绕入的情况，等离子体处理装置具备：处理室，其对样品进行等离子体处理；样品台，其具备第一电极和配置于第一电极的外侧的第二电极且载置样品；第一高频电源，其经由第一匹配器以及第一传输路径而向第一电极供给第一高频电力；以及第二高频电源，其经由第二匹配器以及第二传输路径而向第二电极供给第二高频电力，所述等离子体处理装置还具备控制装置，所述控制装置控制第一高频电源，以使得在第二匹配器的预设值为规定值的情况下，向样品台供给第一高频电力，规定值是使第二传输路径的阻抗成为高频电力不被第二匹配器检测出的阻抗的值。
本发明授权等离子体处理装置以及等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其具备：处理室，其对样品进行等离子体处理；样品台，其具备第一电极和配置于所述第一电极的外侧的第二电极且载置所述样品；第一高频电源，其经由第一匹配器以及第一传输路径而向所述第一电极供给第一高频电力；以及第二高频电源，其经由第二匹配器以及第二传输路径而向所述第二电极供给第二高频电力， 所述等离子体处理装置的特征在于， 所述等离子体处理装置具备控制装置，所述控制装置控制所述第一高频电源、所述第二高频电源、所述第一匹配器以及所述第二匹配器，在向所述第一电极供给所述第一高频电力的情况下，所述第二匹配器的预设值是使所述第二传输路径的阻抗比所述第一传输路径的阻抗大的预设值。
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