联华电子股份有限公司曹多雯获国家专利权
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龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利内连线结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114765146B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110047135.3，技术领域涉及：H01L23/48；该发明授权内连线结构是由曹多雯;许清彰设计研发完成，并于2021-01-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本内连线结构在说明书摘要公布了：本发明公开一种内连线结构，形成在半导体元件中。内连线结构包括介电层设置在基板上方。所述介电层包含一区域及多个凸出结构。所述多个凸出结构分布在所述区域内。金属层设置在所述介电层上。所述多个凸出结构的顶部相对所述金属层是暴露。跨过所述区域的中间部分的任一个直线路径都会相交于所述多个凸出结构的一部分。
本发明授权内连线结构在权利要求书中公布了：1.一种内连线结构，形成在半导体元件中，其特征在于，包括: 介电层，设置在基板上方，其中所述介电层包含一区域及多个凸出结构，所述多个凸出结构分布在所述区域内；以及 金属层，设置在所述介电层上，其中所述多个凸出结构的顶部相对所述金属层是暴露， 其中跨过所述区域的中间区域的任一个直线路径都会相交于所述多个凸出结构的一部分， 其中所述多个凸出结构包括: 弯折条部，延伸在一方向，其中弯折条部的弯折形状是脉冲信号形状； 直条部，延伸在所述方向，与所述弯折条部相邻；及 多个延长部，在所述直条部的左边与右边，垂直于所述方向，对应所述弯折条部的凹折区域而交替配置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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