细美事有限公司崔镇雨获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695059B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111647647.X，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和方法是由崔镇雨;吴承俊;南镇祐;李章熙;朴永鹤;徐安娜设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于处理基板的装置和方法在说明书摘要公布了：本发明构思提供了一种基板处理装置和基板处理方法，该方法用于处理具有粘附到基板上的杂质的基板的表面，该杂质包括锗。该基板处理方法包括，在将待处理的基板带入到反应空间中至少一个绝缘构件暴露于该反应空间之后：同时或依序将钝化气体和工艺气体供应至所述反应空间的第一步骤，以及在停止供应钝化气体但供应等离子体源的情况下在反应空间中产生等离子体的第二步骤。
本发明授权用于处理基板的装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 工艺腔室，所述工艺腔室具有反应空间，一个或多个绝缘构件暴露于所述反应空间； 基板支承构件，所述基板支承构件在所述反应空间中支承基板； 气体供应构件，所述气体供应构件选择性地将钝化气体和工艺气体供应至所述反应空间； 等离子体源，所述等离子体源将气体激发成等离子体；以及 控制器， 其中，所述控制器控制所述气体供应构件和所述等离子体源，并且 在将待处理的基板带入所述反应空间中并通过所述基板支承构件支承后，所述控制器控制所述气体供应构件和所述等离子体源执行： 同时将所述钝化气体和所述工艺气体供应至所述反应空间的第一步骤，以及 在停止供应所述钝化气体但供应所述工艺气体的情况下在所述反应空间中产生等离子体的第二步骤, 其中，在所述钝化气体保留在所述反应空间的情况下将所述反应空间中的所述工艺气体激发成所述等离子体。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人细美事有限公司，其通讯地址为：韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励