朗姆研究公司苏陈妙妙获国家专利权
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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利调整的原子层沉积获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127890B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980098159.2，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权调整的原子层沉积是由苏陈妙妙;克洛伊·巴尔达赛罗尼;希瓦·沙兰·班达里;普尔凯特·阿加瓦尔;阿德里安·拉沃伊;巴特·J·范施拉芬迪克设计研发完成，并于2019-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本调整的原子层沉积在说明书摘要公布了：本发明提供了在原子层沉积ALD的交替循环期间使用长和短转换时间的沉积薄膜的方法和装置。实施方案涉及在多循环ALD处理的一个或多个循环中将ALD循环的转换持续时间交替。一些实施方案涉及在两或多个ALD循环中配料、清扫、压强、等离子体功率或等离子体能量的调整。
本发明授权调整的原子层沉积在权利要求书中公布了：1.一种沉积膜的方法，所述方法包含： 将衬底提供至处理室； 在第一原子层沉积ALD循环中将第一量的材料沉积于所述衬底上，所述第一原子层沉积循环包括： 在允许前体吸附于所述衬底的表面上的条件下，将所述衬底暴露于所述前体，从而形成所述前体的第一吸附层；以及 将所述前体的所述第一吸附层暴露于反应物质持续第一持续时间以形成所述第一量的所述材料；以及 在所述第一原子层沉积循环之后，使用第二ALD循环将第二量的所述材料沉积在所述第一量的所述材料上，所述第二ALD循环包括： 在允许所述前体吸附于所述衬底的表面上的条件下，将所述衬底暴露于所述前体，从而形成所述前体的第二吸附层；以及 将所述前体的所述第二吸附层暴露于反应物质持续第二持续时间以形成所述第二量的所述材料， 其中，所述第二持续时间比所述第一持续时间长。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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