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龙图腾网获悉合肥工业大学申请的专利一种掩膜与晶圆的调平方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119828424B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510254405.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种掩膜与晶圆的调平方法是由夏豪杰;许非凡;方青林;贺洁;朱梓旭设计研发完成，并于2025-03-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩膜与晶圆的调平方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种掩膜与晶圆的调平方法，其中，该方法包括：用光源垂直照射位于掩膜表面的调平光栅，生成正方形莫尔条纹图；在右侧的区域的下侧部分中确定第一观测区，通过提取第一观测区的莫尔条纹相位计算出条纹旋转角度和实际条纹频率；计算出晶圆在空间中相对于掩膜分别发生横截面倾斜和纵截面倾斜时的角度偏移量；根据测量的角度偏移量进行反馈调节。通过测量正方形莫尔条纹图中第一观测区的相位变化，然后再通过公式转化即可精确计算出晶圆在空间中相对于掩膜分别发生横截面倾斜和纵截面倾斜时的偏移量，解决了现有的掩模与晶圆的调平方法无法通过单点测量实现多界面倾斜角的高精度检测的问题，提高了测量效率和测量精度。

本发明授权一种掩膜与晶圆的调平方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜与晶圆的调平方法，其特征在于，包括： 用光源垂直照射调平光栅，调平光栅位于掩膜表面，其按照象限分为四个象限部分，每个象限部分均包括等间距的多条L型遮光线条，每条L型遮光线条的两边等长且分别与两条象限边界垂直，其第一象限部分和第三象限部分中L型遮光线条的间距为第一间距以及第二象限部分和第四象限部分中L型遮光线条的间距为第二间距，第一间距大于第二间距，每个象限部分中多条L型遮光线条的占空比为12，光源的入射光线透过调平光栅的第一象限部分和第三象限部分经晶圆反射后生成第一衍射光束以及透过调平光栅的第二象限部分和第四象限部分经晶圆反射后生成第二衍射光束，第一衍射光束和第二衍射光束互相干涉并生成正方形莫尔条纹图； 将正方形莫尔条纹图以对角线进行划分得到四个为等腰三角形的区域，每个区域以自身中垂线为分割线分为两个部分； 在右侧的区域的下侧部分中确定第一观测区，确定第一观测区的条纹旋转角度和实际条纹频率； 通过理想条纹频率和第一观测区的实际条纹频率确定晶圆在空间中相对于掩膜发生纵截面倾斜时的第一角度偏移量εx，根据第一转换公式确定晶圆在空间中相对于掩膜发生横截面倾斜时的第二角度偏移量εy，第一转换公式为： 其中，θ1为第一衍射角，θ2为第二衍射角，θl为条纹旋转角度； 在晶圆与掩膜互相平行时，光源的入射光线与第一衍射光束之间的夹角为第一衍射角，光源的入射光线与第二衍射光束之间的夹角为第二衍射角，正方形莫尔条纹图的条纹频率为理想条纹频率； 根据εx和εy对晶圆与掩膜进行调平。

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