武汉恩达通科技有限公司顾共恩获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉恩达通科技有限公司申请的专利一种光模块用偏振效应可调的反射镜及包含其的光模块获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119575526B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411755102.4，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权一种光模块用偏振效应可调的反射镜及包含其的光模块是由顾共恩;张美容;刘峰;杨震;彭鑫;宋明;夏文高;尚书;连海斌;余文文;杨柳荫设计研发完成，并于2024-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光模块用偏振效应可调的反射镜及包含其的光模块在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光模块用偏振效应可调的反射镜及包含其的光模块，反射镜包括基底和依次设置在基底上的衬底层、银膜层、金属氧化物膜层和介质膜层堆；衬底层为铬膜或钛膜；金属氧化物膜层的材料为Al2O3或TiO2；介质膜层堆由高折射率膜层和低折射率膜层堆叠形成，介质膜层堆的结构式为：aHbL*ncHAIR，其中H为14波长光学厚度的高折射率膜层，L为14波长光学厚度的低折射率膜层，n为周期数，n为≥1的整数，a、b、c分别为膜层厚度系数，AIR为空气。本发明的反射镜既具有优异的反射率，也可以减小P偏振光和S偏振光的分离，调控偏振效应。
本发明授权一种光模块用偏振效应可调的反射镜及包含其的光模块在权利要求书中公布了：1.一种光模块用偏振效应可调的反射镜，其特征在于，包括基底和依次设置在所述基底上的衬底层、银膜层、金属氧化物膜层和介质膜层堆； 所述衬底层为铬膜或钛膜； 所述金属氧化物膜层的材料为Al或TiO 所述介质膜层堆由高折射率膜层和低折射率膜层堆叠形成，介质膜层堆的结构式为：aHbL*ncHAIR，其中H为14波长光学厚度的高折射率膜层，L为14波长光学厚度的低折射率膜层，n为周期数，n为≥1的整数，a、b、c分别为膜层厚度系数，AIR为空气，a=1.54，b=1.92，c=1.54，n=20。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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