成都辰显光电有限公司谭文健获国家专利权
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龙图腾网获悉成都辰显光电有限公司申请的专利一种临时基板以及发光元件的转移方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116190296B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111421641.0,技术领域涉及:H01L21/683;该发明授权一种临时基板以及发光元件的转移方法是由谭文健;熊自阳;朱平;刘娜;王兴发;胡鹏君;张国涛设计研发完成,并于2021-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种临时基板以及发光元件的转移方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种临时基板,临时基板包括:衬底;形变层,设置于衬底的一侧,形变层可在外力作用下发生形变;键合胶层,至少部分键合胶层覆盖于形变层远离衬底的一侧,键合胶层可在形变层的形变作用下发生形变;临时基板用于与至少一个发光元件配合,发光元件至少部分嵌入在键合胶层内,形变层在外力作用下发生形变,键合胶层在形变层的形变作用下发生形变,至少一个发光元件嵌入键合胶层内的深度减小。通过上述方式,能够降低发光元件与临时基板之间的粘附力,提高拾取良率。
本发明授权一种临时基板以及发光元件的转移方法在权利要求书中公布了:1.一种临时基板,其特征在于,所述临时基板包括: 衬底; 形变层,设置于所述衬底的一侧,所述形变层可在外力作用下发生形变; 键合胶层,至少部分所述键合胶层覆盖于所述形变层远离所述衬底的一侧,所述键合胶层可在所述形变层的形变作用下发生形变; 形变控制电路层,设置于所述形变层与所述衬底之间,所述形变控制电路层控制所述形变层发生形变;其中,所述形变层包括压电材料,所述形变层包括多个形变单元,所述形变控制电路层包括多个形变控制子电路,所述形变控制子电路控制所述形变单元发生形变,两个所述形变单元与一个所述发光元件对应设置,所述发光元件包括内嵌于所述键合胶层中的两个引脚,且两个所述形变单元在所述衬底上的正投影分别覆盖对应位置处的所述发光元件的两个所述引脚在所述衬底上的正投影; 其中,所述临时基板用于与至少一个发光元件配合,所述发光元件至少部分嵌入在所述键合胶层内,所述形变层在所述外力作用下发生形变,所述键合胶层在所述形变层的形变作用下发生形变,所述至少一个发光元件嵌入所述键合胶层内的深度减小。
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