应用材料公司郭渊泓获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115380358B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180024130.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁是由郭渊泓;郭晟;马雷克·拉德科;史蒂芬·桑索尼;袁小雄;潘思瑛;村山祐二;勾平平;徐松文设计研发完成，并于2021-03-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁在说明书摘要公布了：一种清洁用于电子制造系统的腔室的方法包括使包含氧气和载气的气体混合物流入远程等离子体产生器中。方法进一步包括通过远程等离子体产生器由气体混合物产生等离子体并且通过使等离子体流入腔室的内部体积中来执行腔室的远程等离子体清洁，其中等离子体从腔室移除复数种有机污染物。
本发明授权用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁在权利要求书中公布了：1.一种清洁用于电子制造系统的腔室的方法，包含以下步骤： 机械加工用于所述电子制造系统的所述腔室的一个或多个部件； 使用所述一个或多个部件组装所述腔室，其中在组装之后，所述腔室包含复数种有机污染物； 暂时将远程等离子体产生器连接到所述腔室的端口或窗； 使包含氧气和载气的气体混合物流入所述远程等离子体产生器中； 通过所述远程等离子体产生器由所述气体混合物产生等离子体； 通过使所述等离子体流入所述腔室的内部体积中来执行所述腔室的远程等离子体清洁，其中所述等离子体从所述腔室移除所述复数种有机污染物；和 在执行所述远程等离子体清洁后，从所述腔室的所述端口或窗断开所述远程等离子体产生器。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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