罗门哈斯电子材料有限责任公司E·阿卡德获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利单体、聚合物和包含其的光刻组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115373221B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211143472.3，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权单体、聚合物和包含其的光刻组合物是由E·阿卡德;J·F·卡梅伦;J·W·萨克莱设计研发完成，并于2018-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本单体、聚合物和包含其的光刻组合物在说明书摘要公布了：单体、聚合物和包含其的光刻组合物。提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：a一种或多种聚合物，所述聚合物包括：单体的一个或多个重复单元，所述单体包括碲吩杂环和一个或多个烯系可聚合基团，或者一种或多种聚合物，所述聚合物包括式IIIC表示的单体的一个或多个重复单元；和b一种或多种酸产生剂化合物，
本发明授权单体、聚合物和包含其的光刻组合物在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含： a一种或多种聚合物，所述聚合物包括式IIIC表示的单体的一个或多个重复单元；和 b一种或多种酸产生剂化合物， IIIC 式中， R是氢或任选取代的C1-16烷基； S是化学键或具有1到20个或更多个可任选被取代的碳和杂原子的链，所述杂原子选自N、O和S； 每个R1是相同或不同的非氢取代基，并且可包含一个或多个酸可裂解基团、极性基团和或碱反应性基团； R2是非氢取代基，并且可包含一个或多个酸可裂解基团、极性基团和或碱反应性基团；以及 n是0其中不存在R1基团到4的整数； 其中式IIIC表示的单体包括一个或多个酸可裂解基团。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人罗门哈斯电子材料有限责任公司，其通讯地址为：美国马萨诸塞州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励