东京毅力科创株式会社熊谷圭惠获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理方法和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112802737B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011214947.4，技术领域涉及：H01L21/205；该发明授权基片处理方法和基片处理装置是由熊谷圭惠;久松亨;本田昌伸设计研发完成，并于2020-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理方法和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供能够连续控制在基片上形成的膜的覆盖率的基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法包括a在腔室内将在正面形成有图案的基片暴露于第一反应种，使第一反应种吸附在基片的正面的工序。此外，基片处理方法包括b在腔室内，将基片暴露于由第二反应种形成的等离子体，在基片的正面形成膜的工序。此外，基片处理方法包括c将包含工序a和工序b的处理以改变工序b开始时的第一反应种的滞留量的方式反复执行两次以上的工序。
本发明授权基片处理方法和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理方法，其特征在于，包括： a在腔室内将在正面形成有图案的基片暴露于第一反应种，使所述第一反应种吸附在所述图案的正面的工序； b在所述腔室内，将所述基片暴露于由第二反应种形成的等离子体，在所述图案的正面形成膜的工序；和 c对所述基片，将包含所述a和所述b的处理以改变所述b开始时的第一反应种的滞留量的方式反复执行两次以上的工序。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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