浙江理工大学陈世昌获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉浙江理工大学申请的专利一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119903779B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411994403.2，技术领域涉及：G06F30/28；该发明授权一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法是由陈世昌;袁文旭;陈文兴设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法在说明书摘要公布了：本发明涉及化工领域，公开了一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法。本发明方法可以对黏性流体沿降膜流场结构向下降膜流动过程进行模拟计算，可有效得到降膜流动过程中的速度分布、相分布、组分分布、温度分布、黏度分布和停留时间分布等流场信息，为分析黏性流体降膜流动特性以及工业装置的设计、放大和过程优化提供参考和指导。本发明提供的模拟分析方法具有通用性，对于以黏性流体为工作介质的其它流动系统也具有参考价值。
本发明授权一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法在权利要求书中公布了：1.一种基于CFD的黏性流体降膜流动特性的模拟分析方法，其特征在于： 针对黏性流体沿降膜流场结构进行向下的降膜流动，利用CFD对给定结构的降膜流场进行前处理、求解和后处理，获得流场特征信息；具体步骤包括： 1前处理：通过前处理软件对降膜流场结构进行建模； 2求解：在CFD软件中确定求解方程、求解方法及边界条件，运行CFD软件计算模块得到黏性流体降膜流场信息，且不限于对流场进行二次及其以上的CFD计算； 3后处理：通过后处理软件对经过CFD求解得到的黏性流体降膜流场信息进行分析、综合和可视化处理； 所述降膜流场结构包括起支撑黏性流体流动的降膜元件或降膜元件组合结构，以及为流体进入降膜元件提供辅助的布膜结构、对降膜元件起固定作用的定位结构、改变降膜元件表面构造的部件结构； 步骤2具体包括：
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江理工大学，其通讯地址为：310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街浙江理工大学；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励