东华隆股份有限公司;日立全球先端科技股份有限公司高畠刚获国家专利权
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龙图腾网获悉东华隆股份有限公司;日立全球先端科技股份有限公司申请的专利静电吸盘及处理装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114981949B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080063677.3,技术领域涉及:H01L21/683;该发明授权静电吸盘及处理装置是由高畠刚;中筋智博;伊藤亮;瀬户健太郎;大本豊;北田裕穗;田中一海设计研发完成,并于2020-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电吸盘及处理装置在说明书摘要公布了:本发明提供一种静电吸盘及处理装置。一种静电吸盘,为约翰逊‑拉贝克力型的静电吸盘,具有金属基材、隔着绝缘层而设置于所述金属基材上的静电吸附用电极、以及构成与被处理体相接触的静电吸附面的介电层,所述静电吸盘中,所述介电层包含陶瓷喷镀皮膜与填充至所述陶瓷喷镀皮膜的气孔内的封孔成分,所述封孔成分包含含有稀土元素的金属有机酸盐。
本发明授权静电吸盘及处理装置在权利要求书中公布了:1.一种静电吸盘,为约翰逊‑拉贝克力型的静电吸盘,具有金属基材、隔着绝缘层而设置于所述金属基材上的静电吸附用电极、以及构成与被处理体相接触的静电吸附面的介电层,所述静电吸盘中,所述介电层包含陶瓷喷镀皮膜与填充至所述陶瓷喷镀皮膜的气孔内的封孔成分,所述封孔成分包含含有稀土元素的金属有机酸盐,所述陶瓷喷镀皮膜的体积电阻率为1.0×108Ω·cm~1.0×1013Ω·cm。
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