ASML荷兰有限公司张权获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于改善掩模图案生成一致性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114981724B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080086061.8，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权用于改善掩模图案生成一致性的方法是由张权;周大栋;陈炳德;卢彦文设计研发完成，并于2020-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于改善掩模图案生成一致性的方法在说明书摘要公布了：本文中描述了一种确定待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法400。该方法包括：参考目标图案上的给定位置，将包括目标图案的设计布局401的一部分划分P401成多个单元402；在多个单元中的特定单元内分配P403多个变量403，特定单元包括目标图案或目标图案的一部分；以及基于多个变量的值，确定P405目标图案的掩模图案405，使得使用掩模图案的图案化过程的性能度量在期望的性能范围内。
本发明授权用于改善掩模图案生成一致性的方法在权利要求书中公布了：1.一种确定用于待印制在衬底上的目标图案的掩模图案的方法，所述方法包括： 参考所述目标图案上的给定位置，将包括所述目标图案的设计布局的一部分划分成多个单元； 在所述多个单元中的特定单元内分配多个变量，所述特定单元包括所述目标图案或所述目标图案的一部分；以及基于所述多个变量的值，基于图案化过程的性能度量确定所述目标图案的掩模图案，其中确定所述掩模图案包括： 使用所述目标图案和所述多个变量模拟所述图案化过程，以基于所述性能度量确定所述多个变量的值；以及基于所确定的多个变量的值来生成用于所述目标图案的掩模图案； 其中，所述设计布局与第一坐标系相关联，并且所述多个单元与第二坐标系相关联，其中所述多个变量的值在所述第二坐标系中被表示，并且能够被转换成在所述第一坐标系中表示的值。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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