湖北工业大学魏兵获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北工业大学申请的专利一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119426242B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411465249.X，技术领域涉及：B08B3/02；该发明授权一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统及方法是由魏兵;吴文强;吴从义;边云鹏;江杰设计研发完成，并于2024-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统，属于微纳米气泡清洗技术领域，包括臭氧发生器、加热池、微纳米气泡发生器、清洗池、过滤器以及电控柜；所述臭氧发生器、加热池分别与微纳米气泡发生器的入口连接，所述微纳米气泡发生器的出口与的清洗池的入口连接，所述清洗池的出口与所述过滤器连接；所述电控柜与所述加热池、臭氧发生器、微纳米气泡发生器电连接；所述清洗池包括清洗池包括清洗工位和若干清洗喷头，通过往复电机能够带动清洗喷头摆动；本发明还公开了对应的清洗方法。本发明能够提高对晶片表面污渍的清洗效率和去除率，避免清洗不均匀，并降低对环境的污染。
本发明授权一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于晶片的多角度微纳米气泡清洗系统，其特征在于，包括臭氧发生器、加热池、微纳米气泡发生器、清洗池、过滤器以及电控柜； 所述臭氧发生器、加热池分别与微纳米气泡发生器的入口连接，所述加热池设有加热水出口，所述加热水出口通过循环泵与微纳米气泡发生器相连；所述清洗池包括清洗池喷嘴入口，所述清洗池喷嘴入口通过四通阀分别与臭氧发生器、加热池、微纳米气泡发生器的出口相连；所述清洗池的出口与所述过滤器连接；所述电控柜与所述加热池、臭氧发生器、微纳米气泡发生器电连接； 所述清洗池上还包括快速注水口，所述快速注水口与所述微纳米气泡发生器的出口相连； 所述清洗池还包括清洗工位和若干清洗喷头；所述清洗工位用于放置晶片，所述清洗喷头位于所述清洗工位的晶片下方；各清洗喷头的下端通过销轴铰接在清洗池的底部上方的辅助安装结构上；各清洗喷头上端通过长杆并联在一起，并且所述清洗喷头的上端与长杆可转动地连接；所述长杆一端与往复电机连接用于带动长杆往复移动，从而带动清洗喷头摆动。
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