华研芯测半导体(苏州)有限公司王鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉华研芯测半导体(苏州)有限公司申请的专利一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品、校准装置及校准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116659427B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310571580.9，技术领域涉及：G01B15/00；该发明授权一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品、校准装置及校准方法是由王鹏;楼圣群;夏长城设计研发完成，并于2023-05-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品、校准装置及校准方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种关键尺寸扫描电子显微镜CD‑SEM标准样品、校准装置及校准方法，包括：一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品，所述标准样品分为四个不同的区域S1、S2、S3和S4，所述四个区域中图案的最小结构尺寸各不相同；所述四个不同的区域S1、S2、S3和S4中的每个区域又分为四个区域P1、P2、P3和P4，其中的图案为四种不同的形状；所述四种不同的形状又分为上下两个部分，为两种不同的图案类型。一种校准装置，应用所述标准样品，其特征在于，包括：样品承载装置、标准样品、待量测样品、三维运动平台；本发明还公开了一种关键尺寸扫描电子显微镜校准方法，使用所述校准方法可以及时、高效的对CD‑SEM进行校准和实现对待量测样品关键尺寸的量测。
本发明授权一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品、校准装置及校准方法在权利要求书中公布了：1.一种关键尺寸扫描电子显微镜标准样品，其特征在于： 所述标准样品分为四个不同的区域S1、S2、S3和S4，所述四个区域中图案的最小结构尺寸各不相同；所述四个不同的区域S1、S2、S3和S4中的每个区域又分为四个区域P1、P2、P3和P4，其中的图案为四种不同的形状：P1形状为线条形，P2形状为方块形，P3形状为十字形，P4形状为圆形；所述四种不同的形状又分为上下两个部分，为两种不同的图案类型：上部分图案类型为凸起型，下部图案类型为凹陷型。
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