株式会社日立高新技术广濑龙介获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利质量分析方法和质量分析装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115769070B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080102602.1,技术领域涉及:G01N27/62;该发明授权质量分析方法和质量分析装置是由广濑龙介;秋山秀之;坂井范昭设计研发完成,并于2020-07-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本质量分析方法和质量分析装置在说明书摘要公布了:本发明是一种使用了质量分析装置的质量分析方法,包括:通过质量分析装置的控制部,基于分析对象成分的分子式、包含在分析对象成分中的存在多个同位素的元素的同位素存在比,计算分析对象成分的同位素的质量和各质量的分析对象成分的存在比,从而计算理论质谱;通过质量分析装置的预处理部对测定对象物进行电离;通过质量分析装置的质量检测部检测电离后的离子的质量和各质量的离子数量;通过控制部基于质量检测部的检测结果计算第一质谱;由控制部仅针对存在理论质谱的峰的质量,通过比较理论质谱和第一质谱来计算一致度;通过控制部基于一致度判定测定对象物中有无分析对象成分。
本发明授权质量分析方法和质量分析装置在权利要求书中公布了:1.一种使用了质量分析装置的质量分析方法,其特征在于,包括: 通过所述质量分析装置的控制部,基于分析对象成分的分子式、包含在所述分析对象成分中且存在多个同位素的元素的同位素存在比,计算所述分析对象成分的同位素的质量和各质量的所述分析对象成分的存在比,从而计算理论质谱; 通过所述质量分析装置的预处理部对测定对象物进行电离; 通过所述质量分析装置的质量检测部检测所述电离后的离子的质量和各质量的离子数量; 通过所述控制部基于所述质量检测部的检测结果计算第一质谱; 通过所述控制部仅针对存在所述理论质谱的峰的质量,比较所述理论质谱和所述第一质谱来计算一致度;以及通过所述控制部基于所述一致度判定所述测定对象物中有无所述分析对象成分,所述质量分析方法还包括: 通过所述控制部在没有所述测定对象物的状态下使所述预处理部和所述质量检测部动作; 通过所述控制部基于所述质量检测部的检测结果计算在没有所述测定对象物时的第二质谱;以及通过所述控制部在计算所述一致度之前从所述第一质谱中减去所述第二质谱,在所述判定中,所述控制部将所述一致度与第一阈值以及大于所述第一阈值的第二阈值进行比较,在所述一致度低于所述第一阈值的情况下判定为不存在所述分析对象成分,在所述一致度为所述第二阈值以上的情况下判定为存在所述分析对象成分。
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