北京晨晶电子有限公司赵黎明获国家专利权
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龙图腾网获悉北京晨晶电子有限公司申请的专利一种石英三维结构加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115417372B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211216950.9，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种石英三维结构加工方法是由赵黎明;郄立伟;王天宇;张琳琳;裴志强设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种石英三维结构加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及石英材料，具体涉及一种石英三维结构加工方法。石英三维结构加工方法包括采用石英湿法腐蚀工艺，石英干法刻蚀工艺，和侧楞修复的平行刻蚀工艺中的任两种或三种。本发明石英三维结构加工方法，可以解决石英三维结构加工存在的由于加工方法引入的对应的加工不适宜性，本发明方法使石英三维加工突出精度高，具有成本低廉，效率高等特点。
本发明授权一种石英三维结构加工方法在权利要求书中公布了：1.一种石英三维结构加工方法，其特征在于，当石英晶圆厚度范围为200μm‑1000μm时，依次采用石英湿法腐蚀工艺，石英干法刻蚀工艺，和侧棱修复的平行刻蚀工艺； 所述石英湿法腐蚀工艺为通透腐蚀工艺，采用氢氟酸和氟化铵混合溶液，溶液配比为： 40wt%氢氟酸溶液:40wt%氟化铵溶液=1:1 vv，在温度环境70℃单一稳定温度下，对石英晶圆掩膜区以外的区域进行释放，得到符合要求的三维结构； 所述石英干法刻蚀工艺，用于调整石英湿法刻蚀产生的侧壁角度及削减石英晶圆的非功能性结构的厚度，同时通过干法刻蚀工艺消除三维结构表面的掩膜层； 所述侧棱修复的平行刻蚀工艺为湿法刻蚀二次加工，以减小石英侧壁晶棱的高度和宽度，以致侧壁晶棱完全消除； 所述侧棱修复的平行刻蚀工艺采用氢氟酸和氟化铵混合溶液，溶液配比为：40wt%氢氟酸溶液:50wt%氟化铵溶液=1:1 vv；工艺温度为50℃；刻蚀时间为20‑40小时。
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