歌尔光学科技有限公司郭培亮获国家专利权
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龙图腾网获悉歌尔光学科技有限公司申请的专利一种纳米压印硬模的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115356893B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210970422.6，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种纳米压印硬模的制备方法是由郭培亮;李莹;吾晓;张玉良;饶轶设计研发完成，并于2022-08-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种纳米压印硬模的制备方法在说明书摘要公布了：本公开实施例公开了一种纳米压印硬模的制备方法。该制备方法包括：提供压印片，所述压印片具有胶层，所述胶层形成有第一光栅槽，所述第一光栅槽形成设定纹路；对所述第一光栅槽进行修饰，以形成修饰槽，所述修饰槽的宽度大于所述第一光栅槽的宽度，所述修饰槽的深度等于所述第一光栅槽的深度；在所述修饰槽上镀薄膜层，以形成第二光栅槽，所述薄膜层的硬度大于所述胶层的硬度，所述第二光栅槽的尺寸与所述第一光栅槽的尺寸相同，所述第二光栅槽形成所述设定纹路。
本发明授权一种纳米压印硬模的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米压印硬模的制备方法，其特征在于，包括： 提供压印片，所述压印片具有胶层，所述胶层形成有第一光栅槽，所述第一光栅槽形成设定纹路； 对所述第一光栅槽进行修饰，以形成修饰槽，所述修饰槽的宽度大于所述第一光栅槽的宽度，所述修饰槽的深度等于所述第一光栅槽的深度； 在所述修饰槽上镀薄膜层，以形成第二光栅槽，所述薄膜层的硬度大于所述胶层的硬度，所述第二光栅槽的尺寸与所述第一光栅槽的尺寸相同，所述第二光栅槽形成所述设定纹路。
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