泉意光罩光电科技(济南)有限公司蕭志偉获国家专利权
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龙图腾网获悉泉意光罩光电科技(济南)有限公司申请的专利一种曝光控制方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115268233B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210988334.9,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种曝光控制方法及装置是由蕭志偉;卢运增;宋月春设计研发完成,并于2022-08-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种曝光控制方法及装置在说明书摘要公布了:本申请提供一种曝光控制方法及装置,方法包括:对待刻蚀掩模板上的光刻胶层进行曝光;对目标图形上的光刻胶层进行继续曝光,所述目标图形是从所述亚分辨率辅助图形中筛选出的,以利用所述目标图形辅助提高刻蚀完毕后得到的掩模板中所述可曝光图形成像的图形轮廓。通过对从亚分辨率辅助图形中筛选出来的目标图形以及其上的光刻胶层继续进行曝光,以便利用继续曝光的目标图形辅助提高刻蚀完毕后得到的掩模板中可曝光图形的图形轮廓,相较于对全部掩模板以及其上的光刻胶层的图形增加曝光时长或曝光次数,只对目标图形以及其上的光刻胶层进行继续曝光,能够降低在制造掩模板过程中的成本,并且提高制造得到的掩模板的图形的精度和辨别度。
本发明授权一种曝光控制方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种曝光控制方法,其特征在于,包括: 利用激光或电子束对待刻蚀掩模板上的光刻胶层进行曝光;所述待刻蚀掩模板的图形包括可曝光图形和亚分辨率辅助图形; 对目标图形上的光刻胶层进行继续曝光,所述目标图形是从所述亚分辨率辅助图形中筛选出的,以利用所述目标图形辅助提高刻蚀完毕后得到的掩模板中所述可曝光图形的图形轮廓; 所述目标图形为所述亚分辨率辅助图形的端部和或拐角部位; 所述亚分辨率辅助图形的端部和或拐角部位是根据所述亚分辨率辅助图形的图形尺寸特征进行切割得到的,较宽的亚分辨率辅助图形端部尺寸小于较窄的亚分辨率辅助图形端部尺寸; 所述目标图形具有不同的尺寸,则所述对目标图形上的光刻胶层进行继续曝光包括: 根据所述目标图形的尺寸确定继续进行曝光的次数; 根据所述继续进行曝光的次数对所述目标图形上的光刻胶层继续进行曝光; 所述根据所述目标图形的尺寸确定继续进行曝光的次数包括: 确定所述目标图形的尺寸落入的预定尺寸范围,根据预定尺寸范围与曝光次数的对应关系确定曝光次数; 所述预定尺寸范围包括第一预定尺寸范围和第二预定尺寸范围,所述第一预定尺寸范围对应的尺寸小于所述第二预定尺寸范围对应的尺寸; 所述第一预定尺寸范围对应的曝光次数大于所述第二预定尺寸的曝光次数。
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