株式会社日立高新技术森高通获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利自动分析系统、控制装置及清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115004039B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080094146.0，技术领域涉及：G01N35/10；该发明授权自动分析系统、控制装置及清洗方法是由森高通;龟山大树;伊藤匠;高桥健一;大泷智正设计研发完成，并于2020-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本自动分析系统、控制装置及清洗方法在说明书摘要公布了：为了得到可靠性高的测定结果，本发明的特征在于，具有：自动分析装置100和控制部200，自动分析装置100具有进行检体的吸引和排出的检体探针122、以及具有使检体探针122至少从收纳有检体的检体容器152的位置向被分注检体的反应容器131的位置移动的检体分注部121，并进行在从检体容器152吸引检体与向反应容器131排出检体之间对检体探针122的周围排出清洗水的第1清洗的检体探针清洗部110，所述控制器200在规定的检查项目中，控制第1清洗中的清洗水的排出和停止。
本发明授权自动分析系统、控制装置及清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种自动分析系统，其特征在于，具有： 自动分析部和控制部，所述自动分析部具有： 探针部，其进行检体的吸引和排出；以及清洗部，其具有使所述探针部至少从收纳有所述检体的检体容器的位置向被分注有所述检体的反应容器的位置移动的探针移动部，并进行第1清洗，所述第1清洗是在从所述检体容器吸引所述检体与向所述反应容器排出所述检体之间，对所述探针部的周围排出清洗液，并且在向所述反应容器排出所述检体后对所述探针部的周围排出所述清洗液，所述控制部在受到不稳定成分的影响的项目中控制所述第1清洗中的所述清洗液的排出和停止，在由所述自动分析部进行的检查是所述受到不稳定成分的影响的检查即第1检查的情况下，所述控制部使所述清洗部进行所述第1清洗，在由所述自动分析部进行的检查是所述第1检查以外的检查即第2检查的情况下，所述控制部使所述清洗部进行第2清洗，所述第2清洗是在从所述检体容器吸引所述检体与向所述反应容器排出所述检体之间，不对所述探针部的外侧排出所述清洗液，但在向所述反应容器排出所述检体后对所述探针部的周围排出所述清洗液。
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