分子装置(奥地利)有限公司雷蒙德·莱特纳获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉分子装置(奥地利)有限公司申请的专利经由双通光场重建的样本成像获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114556411B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080071626.5，技术领域涉及：G06T5/50；该发明授权经由双通光场重建的样本成像是由雷蒙德·莱特纳;扬·施泰因布伦纳设计研发完成，并于2020-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本经由双通光场重建的样本成像在说明书摘要公布了：用于经由双通光场重建的样本成像的方法和系统。在示例性方法50中，可以在光场平面76中捕获样本74的光场图像72。光场图像72可以被计算地正向投影到对象空间78中的多个z平面中的每一个，以生成一组正向投影的z平面图像88a‑f。可以计算将从每个z平面图像的对象空间78中的相同xy区域向光场平面76的反向投影与光场图像72进行比较，以确定来自z平面图像88a‑f中的每一个的反向投影的xy区域与光场图像72之间的相应对应程度。对于每个不同的xy区域，可以选择正向投影的z平面图像88a‑f中的至少一个来贡献用于样本74的2D或3D对象空间图像中的不同的xy区域的数据。
本发明授权经由双通光场重建的样本成像在权利要求书中公布了：1.一种对样本74成像的方法50，所述方法50包括： a在光场平面76中捕获样本74的光场图像72； b将所述光场图像72计算正向投影到对象空间78中的多个z平面中的每一个，以生成z平面图像88a‑f集合； c关于所述光场图像72，比较来自每个z平面图像的对象空间78中的相同的xy区域向所述光场平面76的反向投影，以确定来自所述z平面图像88a‑f中的每一个的反向投影的xy区域与所述光场图像72之间的相应对应程度，其中，针对对象空间78中的多个不同的xy区域中的每一个重复比较； d基于针对每个不同的xy区域的比较，选择所述z平面图像88a‑f中的至少一个以贡献所述样本74的对象空间图像中的所述不同的xy区域的数据；以及e生成所述样本74的所述对象空间图像。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人分子装置(奥地利)有限公司，其通讯地址为：奥地利哈莱恩；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励