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龙图腾网获悉北京中科镭特电子有限公司申请的专利激光解键合步进补偿方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113851411B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111035719.5，技术领域涉及：H01L21/68；该发明授权激光解键合步进补偿方法是由李纪东;张紫辰;侯煜;张昆鹏;张喆;张彪;易飞跃;杨顺凯设计研发完成，并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本激光解键合步进补偿方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种激光解键合步进补偿方法，应用于叠层结构的解键合过程中，其中，叠层结构包括用键合胶键合在一起的基板和晶圆，在解键合时，采用透明吸盘吸附在基板上，方法包括：依据前一爆点位置以及前一爆点的热影响区域，确定目标位置；依据目标位置以及前一爆点的激光光路，确定当前爆点位置的基板入射位置；依据基板入射位置的吸盘厚度以及折射率，确定当前激光发生器的补偿位移；控制激光发生器依据预定的第一位移以及补偿位移移动到当前爆点的激光发生器位置。本发明能够对吸盘的不同厚度区域的折射所导致的光路偏移进行补偿，以使激光解键合过程中的爆点位置能够准确定位。

本发明授权激光解键合步进补偿方法在权利要求书中公布了：1.一种激光解键合步进补偿方法，其特征在于，应用于叠层结构的解键合过程中，其中，所述叠层结构包括用键合胶键合在一起的基板和晶圆，在解键合时，采用透明吸盘吸附在基板上，所述方法包括： 依据前一爆点位置以及前一爆点的热影响区域，确定当前爆点的目标位置； 依据所述目标位置以及前一爆点对应的激光光路，确定当前爆点位置对应的基板入射位置； 依据所述基板入射位置对应的吸盘厚度以及折射率，确定当前激光发生器的补偿位移； 控制激光发生器依据预定的第一位移以及补偿位移移动到当前爆点对应的激光发生器位置，以使所述激光发生器发出的激光经透明吸盘折射后入射至当前爆点的目标位置； 其中，依据所述基板入射位置对应的吸盘厚度以及折射率，确定当前激光发生器的补偿位移包括： 依据前一爆点的光路，确定与当前爆点对应的激光在所述基板中的第一传播方向； 依据所述第一传播方向以及折射率，确定与当前爆点对应的激光在所述吸盘中的第二传播方向； 依据所述第二传播方向、吸盘厚度以及折射率，确定与当前爆点对应的激光在吸盘中传播过程中产生的偏移距离； 依据偏移距离确定所述补偿位移。

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