东京毅力科创株式会社石井贵之获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利部件、部件的制造方法和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112670153B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011071885.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权部件、部件的制造方法和基片处理装置是由石井贵之;永关一也;斋藤道茂;金子彰太设计研发完成，并于2020-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本部件、部件的制造方法和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供部件、部件的制造方法和基片处理装置，能够提高覆盖含硅的铝材的氧化膜的均匀性。所提供的部件是用于基片处理装置的部件，上述部件由含硅的铝形成，硅粒径为1μm以下。
本发明授权部件、部件的制造方法和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种用于基片处理装置的、硅粒径为1μm以下的硅部件的制造方法，其特征在于，包括： a基于3维数据，供给含硅的铝的粉末材料，使所述粉末材料沉积在基材之上的工序； b在所述a之后，利用激光使所供给的所述粉末材料在所述基材之上熔融的工序； c在所述b之后，对在所述b中熔融了的所述粉末材料进行急冷凝固的工序；和d判断是否反复进行所述a、所述b和所述c的工序。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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