ASML荷兰有限公司R·沃克曼获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于光刻过程性能确定的方法以及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114341741B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080061884.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光刻过程性能确定的方法以及设备是由R·沃克曼;林裴冷;布兰丁·玛丽·安德烈·里奇特·明格蒂;V·巴斯塔尼;M·哈伊赫曼达;L·M·韦尔甘-于泽;弗兰斯·雷尼尔·斯皮林设计研发完成，并于2020-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻过程性能确定的方法以及设备在说明书摘要公布了：用于确定光刻图案化过程的性能的方法以及设备，该设备或方法被配置为或包括：接收衬底的一部分的图像，该衬底的该部分包括第一区以及第二区，第一区包括与在第一时间对衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征，并且第二区包括与在第二时间对衬底进行的第二光刻曝光相关联的第二特征，其中，第一区和第二区不重叠，并且其中，第一特征和第二特征形成沿着第一区的至少一部分以及第二区的至少一部分延伸的单个特征；以及基于与第一区和第二区之间的边界相关联的已曝光的第一特征和或已曝光的第二特征的特征特性确定光刻图案化过程的性能。
本发明授权用于光刻过程性能确定的方法以及设备在权利要求书中公布了：1.一种用于表征图案化过程的方法，所述方法包括： 沿着衬底上的至少两个相邻的被图案化的场或子场之间的一个或多个边界，获得拼接误差的多个值； 使畸变模型拟合于所述多个值，以获得表示所述至少两个相邻的被图案化的场或子场内的场或子场的变形的区别标识； 获得场内和或场间变形数据；以及 执行以下各项中的一项或多项： 利用所述场内和或场间数据验证所述拼接误差的所述多个值的一致性； 将所述区别标识与所述场内和或场间数据组合，以获得增强的区别标识； 对所述区别标识去校正，以使一个或多个贡献因素与所述区别标识分离。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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