株式会社东芝;东芝高新材料公司齐藤忠雄获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社东芝;东芝高新材料公司申请的专利磁性薄带及使用了其的磁芯获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114365241B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080060207.1，技术领域涉及：H01F1/16；该发明授权磁性薄带及使用了其的磁芯是由齐藤忠雄;前田贵大;土生悟设计研发完成，并于2020-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁性薄带及使用了其的磁芯在说明书摘要公布了：本发明涉及磁性薄带及使用了其的磁芯。本发明的实施方式大概涉及磁性薄带及使用了其的磁芯。本发明实施方式的磁性薄带在对Fe‑Nb‑Cu‑Si‑B系磁性薄带进行XRD分析时，结晶相的峰总面积非晶相的峰面积+结晶相的峰总面积所示的结晶度为0.05～0.4。此外，磁性薄带优选在对结晶相进行EBSD分析时，具有检测到KIKUCHI图案的区域。此外，磁性薄带的厚度优选为25μm以下。
本发明授权磁性薄带及使用了其的磁芯在权利要求书中公布了：1.一种磁性薄带，其特征在于，在对Fe-Nb-Cu-Si-B系磁性薄带进行XRD分析时，结晶相的峰总面积非晶相的峰面积+结晶相的峰总面积所示的结晶度为0.05～0.4， XRD分析以Cu靶、管电压40kV、管电流40mA、狭缝宽度RS0.40mm的条件进行， 测定条件设定为平面外θ2θ，在衍射角2θ为5°～140°的范围进行测定， 在衍射角2θ为30°～60°处具有最强峰，并且，将半值宽度为3°以上的峰设定为非晶相的峰，将该非晶相的峰的面积设定为非晶相的峰面积，将在5°～140°处检测到的非晶相的峰以外全部设定为结晶相的峰，将结晶相的峰的合计面积设定为结晶相的峰总面积， 如果为上述的XRD分析条件，则非晶相的峰在22°±1°及44°±1°处被检测到，将这些以外的峰作为结晶相的峰进行计数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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