朗姆研究公司崎山行则获国家专利权
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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利制造室中异常等离子体事件的检测和定位获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114729835B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080080541.3,技术领域涉及:G01J1/42;该发明授权制造室中异常等离子体事件的检测和定位是由崎山行则;尼拉杰·拉纳;诺亚·埃利奥特·贝克设计研发完成,并于2020-11-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造室中异常等离子体事件的检测和定位在说明书摘要公布了:公开了一种用于确定在多站集成电路制造室的处理站处或附近发生的异常等离子体事件的发生的装置。在特定实施方案中,响应于异常等离子体事件而产生的光发射可以由多个光电传感器中的至少一个光电传感器检测。处理器可以与多个光传感器协作以确定异常等离子体事件已经发生在多站集成电路制造室的特定处理站处或附近。
本发明授权制造室中异常等离子体事件的检测和定位在权利要求书中公布了:1.一种集成电路制造室,其包括: 多个站; 多个观察口,其对从所述多个站中的至少一个站发出的光发射至少部分透明; 多个光电传感器,所述多个光电传感器中的每个传感器布置在所述多个观察口中的对应一个附近,以检测从所述多个站中的所述至少一个站发出的光发射;以及 处理器,其被配置为至少部分地基于来自所述多个光电传感器中的至少两个光电传感器的输出信号来识别所述多个站中的已经发生异常等离子体事件的所述至少一个站,其中: 所述多个观察口中的第一观察口使得能看到所述多个站中的第一站和第二站, 所述多个观察口中的第二观察口使得能看到所述多个站中的第三站和第四站,并且 所述多个观察口中的第三观察口使得能看到所述多个站中的所述第一站和所述第三站。
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