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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理装置以及基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115176335B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180017449.7，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权基板处理装置以及基板处理方法是由山口侑二;折坂昌幸;宫川纱希设计研发完成，并于2021-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置以及基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明的基板处理装置在处理容器内使用超临界状态的处理流体来处理基板的技术中，防止混入到处理流体中的杂质被紊流运送而附着于基板。在处理容器12且在俯视时在相比基板S的一端部的外侧设有面向处理空间中的比基板靠上方的空间开口的第一导入口123a和面向比支撑托盘15靠下方的空间开口的第二导入口124a。并且，在俯视时在相比基板的另一端部的外侧设有面向处理空间中的比支撑托盘靠上方的空间开口的第一排出口125a和面向比支撑托盘靠下方的空间开口的第二排出口126a。超临界状态且为第一温度的处理流体经由第一导入口向处理空间供给，并且更低温的第二温度的处理流体经由第二导入口向处理空间供给。

本发明授权基板处理装置以及基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备： 平板状的支撑托盘，其支撑水平姿势的基板的下表面； 处理容器，其将上述支撑托盘收纳于内部的处理空间；以及 流体供给部，其向上述处理空间供给超临界处理用的处理流体， 上述处理容器具有容器主体和盖部，上述容器主体设有能够收纳支撑上述基板的上述支撑托盘的上述处理空间以及与上述处理空间连通且用于使上述支撑托盘通过的开口部，上述盖部能够封堵上述开口部， 上述处理容器设有作为用于向上述处理空间导入上述处理流体的导入口的第一导入口及第二导入口、以及作为用于从上述处理空间排出上述处理流体的排出口的第一排出口及第二排出口， 上述第一导入口在俯视时在相比上述基板的一端部的外侧，面向上述处理空间中的比上述基板靠上方的空间开口，上述第二导入口在相比上述一端部的外侧，面向上述处理空间中的比上述支撑托盘靠下方的空间开口， 上述第一排出口在俯视时在相比上述基板的与上述一端部相反一侧的另一端部的外侧，面向上述处理空间中的比上述支撑托盘靠上方的空间开口，上述第二排出口在相比上述另一端部的外侧，面向上述处理空间中的比上述支撑托盘靠下方的空间开口， 上述流体供给部经由上述第一导入口向上述处理空间供给超临界状态且为预定的第一温度的上述处理流体，并且经由上述第二导入口向上述处理空间供给超临界状态且为比上述第一温度低的第二温度的上述处理流体。

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